Wafer 12 inci (300mm)

Wafer 12 inci (300mm)

Saham besar wafer yang digilap sampingan dalam semua diameter wafer dari 100mm hingga 300mm . Jika spesifikasi anda tidak tersedia dalam inventori kami, kami telah menubuhkan hubungan jangka panjang dengan banyak vendor yang mampu membasuh bahan -bahan yang boleh dimuatkan dalam Industri semikonduktor . dicing dan penggilap tersuai juga boleh didapati mengikut keperluan anda . sila hubungi kami .
Share to
Hantar pertanyaan
Berbual sekarang
Description/kawalan
Parameter teknikal


Pengenalan Produk


 12 inch(300mm) Polished Wafer DSC01251 730


12 inch(300mm) Polished Wafer DSC01700 730


Sifat bahan


Parameter

Ciri

Kaedah Kawalan ASTM

Jenis/dopan

P, Boron N, Fosforus N, Antimoni N, Arsenik

F42

Orientasi

<100>,   <111>Mengecilkan orientasi setiap spesifikasi pelanggan

F26

Kandungan oksigen

1019 Toleransi tersuai PPMA bagi setiap spesifikasi pelanggan

F121

Kandungan karbon

< 0.6   ppmA

F123

Rangus ranges- p, boron- n, fosforus- n, antimoni- n, arsenik

0.001 - 50 ohm cm
0.1 - 40 ohm cm
0.005 - 0.025 ohm cm
<0.005 ohm cm

F84


Sifat mekanikal


Parameter

Perdana

Memantau/ ujian a

Ujian

Kaedah ASTM

Diameter

300 ± 0.2 mm

300 ± 0.2 mm

300 ± 0.5 mm

F613

Ketebalan

775 ± 20 μm (standard)

775 ± 25 μm (standard) 450 ± 25 μm 625 ± 25 μm 1000 ± 25 μm 1300 ± 25 μm 1500 ± 25 μm

775 ± 50 μm (standard)

F533

Ttv

< 5 µm

< 10 µm

< 15 µm

F657

Tunduk

< 30 µm

< 30 µm

< 50 µm

F657

Balut

< 30 µm

< 30 µm

< 50 µm

F657

Kelebihan bulat

Semi-std

F928

Menandakan

Sahaja primer hanya, flat separa std Jeida flat, takik

F26, F671


Kualiti permukaan


Parameter

Perdana

Memantau/ ujian a

Ujian

Kaedah ASTM

Kriteria sebelah depan

Keadaan permukaan

Mekanikal kimia digilap

Mekanikal kimia digilap

Mekanikal kimia digilap

F523

Kekasaran permukaan

< 2 A°

< 2 A°

< 2 A°


Contamination,Particles   @ >0.3 µm

= 20

= 20

= 30

F523

Jerebu, lubang, kulit oren

Tiada

Tiada

Tiada

F523

Saw Marks, Striations

Tiada

Tiada

Tiada

F523

Kriteria sisi belakang

Retak, crowsfeet, melihat tanda, noda

Tiada

Tiada

Tiada

F523

Keadaan permukaan

Kaustik terukir

F523

 

Penerangan Produk


Sesuai untuk aplikasi mikrofluid . Untuk aplikasi mikroelektronik atau MEMS, sila hubungi kami untuk spesifikasi terperinci .

 

Walaupun peranti semikonduktor terus mengecut, ia menjadi semakin penting bagi wafer untuk mempunyai kualiti permukaan yang tinggi di kedua -dua bahagian depan dan belakang mereka . pada masa ini wafer ini adalah yang paling biasa dalam sistem mikroelektrik (MEMS), ikatan wafer, soi} Evolusi industri semikonduktor dan komited untuk mencari penyelesaian jangka panjang untuk semua keperluan pelanggan .

Saham besar wafer yang digilap sampingan dalam semua diameter wafer dari 100mm hingga 300mm . Jika spesifikasi anda tidak tersedia dalam inventori kami, kami telah menubuhkan hubungan jangka panjang dengan banyak vendor yang mampu membasuh bahan -bahan yang boleh dimuatkan dalam Industri semikonduktor .

Dicing dan penggilap yang disesuaikan juga boleh didapati mengikut keperluan anda . sila hubungi kami .

 

Ciri -ciri produk


·         12 "jenis P/N, wafer silikon yang digilap (25 pcs)

·         Orientasi: 300

·         Resistivity: 0.1 - 40 ohm • cm (ia mungkin berbeza dari batch ke batch)

·         Ketebalan: 775+/-20 um

·         Perdana/monitor/gred ujian





Cool tags: 12 inci (300mm) wafer, China, pembekal, pengeluar, kilang, dibuat di China

Hantar pertanyaan
Hantar pertanyaan